17日，国家信息光电子创新中心与武汉虹拓新技术公司在武汉签署合作协议，共同开发飞秒频率梳光芯片。该芯片是未来超大容量光通信的核心技术。
位于光谷的国家信息光电子创新中心，今年4月在武汉烽火科技集团正式挂牌成立，汇聚了国内信息光电子领域超过60%的创新资源，是全国唯一一家国家级信息光电子创新中心，它将承载为信息光电子产业造“中国芯”的国家使命。
而此次签约的光谷企业武汉虹拓新技术公司，是由曹祥东博士回国创立的一家专门从事光纤飞秒激光器研制开发的国家高新技术企业，飞秒激光被称为“最快的刀、最准的尺、最亮的光”，可广泛应用于精密微加工、再制造、医疗、科研、电子制造等领域，甚至能用于集成电路的光刻工艺中。2013年虹拓曾开发出中国首台全光纤飞秒激光器，后又开发出世界首个小型化超高速飞秒激光器。
国家信息光电子创新中心技术研发总监傅焰峰介绍，我国在“超大容量、超高速率、超长距离”光通信传输领域，连续取得重大科技突破，然而大量的芯片仍然要依赖进口，这次与武汉虹拓合作，主要是利用双方的优势资源，在国内共同建立以 “芯片级超快激光器 ”为方向的研发平台。
