为贯彻落实《武汉市加快集成电路产业高质量发展若干政策》（武政规〔2020〕18号）文件精神，市经信局起草了《武汉市加快集成电路产业高质量发展资金管理办法（征求意见稿）》，现向社会公开征求意见。如有修改意见，请于2020年11月6日（周五）下班前以书面形式反馈至市经信局电子信息产业处。
附件：《武汉市加快集成电路产业高质量发展资金管理办法（征求意见稿）》
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武汉市经济和信息化局
2020年10月26日
附件
武汉市加快集成电路产业高质量发展
资金管理办法
（征求意见稿）
第一章 总 则
第一条 根据《武汉市加快集成电路产业高质量发展若干政策》（武政规〔2020〕18号）（以下简称政策），为提高我市加快集成电路产业高质量发展资金（以下简称资金）的使用效益与管理水平，制定本办法。
第二条 本办法所称的资金由市级财政在市工业发展专项资金预算中安排，主要用于对集成电路设计企业的流片、设计费用进行补贴（政策第四、五条），对集成电路公用服务平台的建设和运营给予资助和补贴（政策第六条），对集成电路企业销售自主研发设计的芯片及相关产品进行奖励（政策第七条），对集成电路企业用于研发、生产的贷款给予贴息（政策第九条）。
第三条 资金管理遵循公正公平、规范合法、权责对等、有效监督的原则；以标准明确、过程透明、效率效益为目标，实施事后奖补；更加注重依托专业机构，发挥区级经信部门贴近基层、熟悉企业、了解情况的优势，实行市级统筹与分级使用相结合，广泛接受社会监督。
第二章 职责分工
第四条 本办法涉及市经信局、各区（开发区）经信部门、第三方专业机构、申报企业等单位，各自承担以下主要职责：
（一）市经信局：编制年度资金预算和支出计划，发布资金申报通知，指导各区（开发区）经信部门开展项目申报和评审，开展项目跟踪管理、监督检查，下达资金支持计划，批准项目变更、撤销或中止，办理资金拨付、回收和清算；按照政府采购的相关规定统一选聘第三方专业机构开展项目申报、审核、验收、后评价等过程中的事务性和辅助性工作；配合市财政局开展资金项目绩效评价和再评价，配合审计、监察等部门对资金使用和管理进行监督检查；职能范围内的其他工作事项。
（二）各区（开发区）经信部门：负责项目的申报、受理、核查、认定、资金分配和监督使用等，负责组织对辖区内项目进行第三方专业机构（由市经信局统一选聘）审核，加强项目资金使用安全和效益目标的跟踪管理，抓好项目落地建设和政策落实。
（三）第三方专业机构：受托组织开展项目申报、审核、验收、后评价等过程中的事务性和辅助性工作。
（四）项目申报企业（单位）：按照申报通知要求进行项目申报，并提交项目资金申请书等资料；获得批复后，按照签订的资金使用合同或资金批复文件内容实施项目；按照要求开展绩效自评工作，配合开展监督、检查工作；及时报送项目有关材料，并对材料的真实性、准确性和完整性负责；根据项目评价结果及时进行整改。
第三章 资金支持对象和领域
第五条 本办法所称的集成电路企业，是指在我市设立的主营业务为集成电路设计、制造、封测、设备、材料的企业，并同时符合下列条件：
（一）在我市登记注册，具有独立法人资格，财务会计制度健全，依法纳税的。
（二）不违反国家、省、市联合惩戒政策和制度规定，无不良信用记录，符合国家、省、市能耗、环保、安全等要求的。
（三）企业的主营业务收入占企业收入总额的比例不低于60%。
第六条 本办法所称的集成电路设计企业，是指符合本办法第四条规定，以集成电路设计为主营业务并同时符合下列条件的企业：
（一）拥有核心关键技术，并以此为基础开展经营活动。
（二）具有与集成电路设计相适应的生产经营场所、软硬件设施等开发环境(如EDA工具、合法的开发工具等)，以及与所提供服务相关的技术支撑环境。
第七条 本办法重点支持方向为：
（一）存储器方向。围绕存储器及控制器芯片的产业链。
（二）光电子方向。包括5G及通信芯片、新型显示芯片、红外探测芯片、LED驱动芯片及相关模块的集成电路产品。
（三）新兴产业方向。物联网、人工智能、智能终端、信息安全、北斗导航、汽车电子、生物医疗电子等领域的芯片。
（四）重点技术方向。微控制器（含RISC-V架构）、第三代化合物半导体、功率半导体、模拟及数模混合电路、微机电系统（MEMS）、射频电路、先进封装、半导体高端设备及材料、大尺寸硅片等。
第四章 申报条件和资助标准
第八条 流片补贴（政策第四条）申报条件、申报资料和资助标准：
（一）符合本办法第六条规定且同时符合下列条件的企业可申请流片补贴：
1.企业年度进行全掩膜（Full Mask）或多项目晶圆（MPW）首轮流片的。
2.经过Full Mask流片，达到设计要求后，可以提供给集成电路系统整机厂商进行芯片性能测试及示范应用的芯片产品，产品应获得集成电路布图设计登记证书或发明专利授权。
3.“首轮流片”是指集成电路设计企业为研发某款芯片而进行的第一次流片。“某款芯片”是指实现某项特定功能的芯片产品。
4.流片费具体包括：IP授权费、掩膜版费、测试化验加工费。
（二）申报流片补贴的企业应提供下列申报资料：
1.企业营业执照复印件。
2.全掩膜（Full Mask）首轮工程产品流片、多项目晶圆（MPW）流片的情况说明。
3.企业上一年度审计报告及相关财务资料（包括：企业Full Mask流片中掩膜版制作费用或首轮流片费用的资料；企业MPW流片中首轮流片费用的资料；集成电路设计企业与集成电路制造企业签订的Full Mask、MPW首轮流片合同、发票、转账凭证等相关材料）。
4.申报企业对申报材料的真实性及不重复申请承诺书。
5.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。
6.市经信局要求的其他材料。
（三）流片补贴标准：
1.对完成全掩膜（Full Mask）首轮工程产品流片的集成电路设计企业，给予首轮流片费用30%或首轮掩膜版制作费用50%的补贴，单个企业年度补贴总额最高500万元。
2.对使用多项目晶圆（MPW）流片进行研发的企业，给予MPW首轮流片费用50%的补贴，单个企业年度补贴总额最高100万元。
第九条 IP（知识产权）、EDA（电子设计自动化）购买及复用、共享补贴（政策第五条）申报条件、申报资料和资助标准：
（一）符合本办法第六条规定且同时符合下列条件的企业可申请IP（知识产权）、EDA（电子设计自动化）购买及复用、共享补贴：
1.企业年度直接购买IP、EDA并用于研发。
2.企业年度复用、共享我市第三方IC设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统。
3.购买IP不包含委托技术服务。
4.“IP”是指供应方提供的已形成知识产权并完成权属登记的，可直接用于二次开发的商品。
5.“委托技术服务”是指，委托方提出技术需求，由供应方研发，之后就该项技术形成知识产权，权属由双方自行约定的。
（二）申报IP、EDA购买及复用、共享补贴的企业应提供下列申报资料：
1.企业营业执照复印件。
2.企业购置IP、EDA的情况介绍；企业开展复用、共享我市第三方IC设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统的工作情况介绍。
3.企业上一年度审计报告及相关财务资料（包括：企业购置IP、EDA的费用明细表、合同、发票、转账凭证等；企业开展复用、共享我市第三方IC设计平台的IP设计工具软件或测试分析系统的费用明细表、合同、发票、转账凭证等）。
4.申报企业对申报材料的真实性及不重复申请承诺书。
5.企业曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。
6.市经信局要求的其他材料。
（三）IP、EDA购买及复用、共享补贴标准：
1.经认定，给予购买IP、EDA实际支出费用的30%、年度总额最高200万元的补贴。
2.经认定，给予IP复用、共享实际投入的50%、年度总额最高100万元的补贴。
第十条 集成电路公共服务平台建设和运营奖补（政策第六条）申报条件、申报资料和资助标准：
（一）符合本办法第五条规定且同时符合下列条件的企业可申请集成电路公共服务平台建设和运营奖补：
1.经市经信局认定的，提供EDA工具和IP核、设计解决方案、先进工艺流片、先进封测服务、测试验证设备等用于我市企业开展高端芯片研发支撑服务的。
2.平台设立时间不超过三年，正常运营服务，具有明确的发展规划、功能定位和管理机制，拥有相应的服务设施、专业技术和管理人才队伍；主要面向中小型集成电路设计企业提供服务，具有公共性、开发性和资源共享性。
3.申报企业投入平台建设和运营的自有资金不低于总投资的30%，且有能力为平台的后续建设提供资金；政府补贴资金不得用于流动资金和纳入财政经费保障人员的工资性支出。
（二）申报集成电路公共服务平台建设和运营奖补的企业应提供下列申报资料：
1.企业营业执照复印件。
2.平台基本情况、发展规划、功能定位、运营管理制度等相关文件。
3.平台取得经营资质的文件和证明材料，知识产权证，检测报告，获奖证书，国家、省市有关平台项目批复文件、合作协议，团队人员情况等相关证明材料。
4.国内知名第三方咨询机构对平台的评价排名、项目的核心技术成果证明材料、主要用户评价报告等。
5.平台年度为我市集成电路企业提供公共技术服务的企业名单及相关合同、发票、转账凭证等材料复印件。
6.平台上一年度审计报告，企业上一年度审计报告。
7.申报企业对申报材料的真实性及不重复申请承诺书。
8.平台曾获得市级相关财政资金支持明细的文件。
9.市经信局要求的其他材料。
（三）集成电路公共服务平台建设和运营奖补标准：
1.对新建的市级集成电路公共服务平台，一次性给予平台实际建设投入30%的资助，最高资助总额不超过1000万元。
2.对投入运营的集成电路公共服务平台，按年度服务合同实际完成额的30%给予补贴，单个平台每年最高不超过500万元。
第十一条&
